EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
CMP leuntzeko urratzailea
| Jatorrizko lekua: | Txina |
| Marka izena: | Semixlab |
| Model zenbakia: | SXL-1 |
| Ziurtagiria: | ISO14001, ISO45001, ISO9001 |
| Gutxieneko Orden Kopurua: | Negoziaziopean |
| Salneurria: | Jarri harremanetan aurrekontu pertsonalizatua lortzeko |
| Packaging Details: | Esportatzeko pakete estandarra |
| Delivery Time: | Eskaera baieztatu eta 15-30 egun igaro ondoren |
| Ordainketa baldintzak: | T / T |
| Hornitzeko gaitasuna: | 10 tona/hilean |
Deskribapena
CMP (Planarizazio Kimiko Mekanikoa) leuntzeko urratzailea funtsezko materiala da erdieroaleen fabrikazioan, beira optikoan, zirkuitu integratuetan, etab., eta nanomailako gainazalen berdintzea lortzen du korrosio kimikoaren eta artezketa mekanikoaren efektu sinergikoari esker.
Aplikazio:
CMP leuntzeko urratzaileak zirkuitu integratuen fabrikazioaren arloan funtsezko materialak dira eta zirkuitu integratuetako ILD, siliziozko oblea monokristalino erdieroaleetan, silizio karburo erdieroaleetan, zirkuitu integratuetako lubaki sakoneko isolamenduan (STI), zirkuitu integratuetako polisilizioan (Poli-Si), zirkuitu integratuetako metaletan eta metalezko hesi-geruzetan erabil daitezke.
Eskain daitezkeen zerbitzuak:
bezeroen aplikazio eszenatokiaren azterketa, materialak lotzea, arazo teknikoen ebazpena.
Enpresaren profila:
Semixlabek 2 laborategi ditu, 20 urteko material-esperientzia duen aditu-talde bat, I+G eta ekoizpen, proba eta egiaztapen gaitasunekin.
zehaztapenak
Ultra-Gorazko Purutasun Serieko Produktuen Errendimendu Adierazleak
| Parametroa | SXL-1 | SXL-2 | SXL-3 | SXL-4 | SXL-5 | SXL-6 | SXL-7 |
| Batez besteko silize partikula tamaina/nm | 35 5 ± | 45 5 ± | 65 5 ± | 75 5 ± | 85 5 ± | 100 5 ± | 120 5 ± |
| Nanopartikula Tamaina Banaketa (PDI) | <0.15 | <0.15 | <0.15 | <0.15 | <0.15 | <0.15 | <0.15 |
| Disoluzio pH | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 | 7.2-7.4 |
| Solidoen edukia/% | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± | 20.5 0.5 ± |
| Argazkiak, musika eta bideoak | Argi urdina | Blue | White | Off-White | Off-White | Off-White | Off-White |
| Partikula Morfologia X | X:S- esferikoa;B- kurbatua;P- kakahuete itxurakoa;T- erraboilduna;C- kate itxurakoa (egoera agregatua) | ||||||
| Egonkortze ioiak | Amina organikoak/ez-organikoak | ||||||
| Lehengaien konposizioa Y | Y:M-TMOS;E-TEOS;ME-TMOS+TEOS;EM-TEOS+TMOS | ||||||
| Metalezko ezpurutasunen edukia | ≤300 ppb | ||||||
aplikazioak
Aplikazio-eremu nagusiak
| Aplikazioaren norabidea | Eszenatoki tipikoa |
| Erdieroaleen Fabrikazioa | Zirkuitu Integratuen (IC) Txip eta Hirugarren Belaunaldiko Erdieroale Materialak |
| Optika eta Pantaila Teknologia | Kristal optikoa, lentea eta pantaila-panela |
| Biltegiratzeko gailuak | Disko gogorrak eta 3D NAND flash memoria |
| Enbalaje aurreratua | Oblea mailako ontziratzea (WLP), TSV (siliziozko zuloaren bidez) |
| Beste goi-mailako aplikazio batzuk | MEMS (Mikro-Sistema Elektromekanikoak) eta Inplante Medikoak |
Kate ekologikoaren egiaztapenaren onespena
Semixlab CMP leuntzeko urratzaileek erdieroaleen industriaren ziurtagiria betetzen dute eta ISO 14001/45001/9001 ziurtagiria gainditu dute.
Ohiko eskaera prozesua
Lehengaia → Urratzaileen sintesia (Gainazalaren aldaketa) → Lohiaren formulazioa (Iragazketa/PH doikuntza) → CMP leuntzea (EPD kontrola) → Garbiketa ostekoa → Ikuskapena (AFM/KLA) → Datuen feedbackaren optimizazioa
Prozesuaren parametroen optimizazioaren bidez, Semixlab CMP leuntzeko urratzaileak aurrerapen handiak lortu ditu goi-mailako erdieroaleen zirkuitu integratuen arloan, pixkanaka inportazioak ordezkatu ditu erdieroaleen merkatuan, eta arrakastaz aplikatu da LCD, OLED eta beste pantaila-panel batzuen ekoizpenean eta fabrikazioan. Txosten tekniko zehatzak lortu edo lagin-probak antolatu behar badituzu, jarri harremanetan gure laguntza teknikoaren taldearekin.
Lehiatzeko abantaila
Semixlab CMP leuntzeko urratzailearen nukleoaren abantailak
a. Partikula-diametroa eta partikula-agregazio-maila libreki erregulagarriak;
b. Partikula-tamaina uniformearen banaketa duten partikula monodispertsoak;
c. Dispertsio-sistema egonkorra;
d. Eskala handiko ekoizpen gaitasuna, lote batetik bestera aldaketa minimoekin;
e. Oso egonkorra, aglomerazioarekiko eta sedimentazioarekiko erresistentea.
Gure zerbitzuak
Semixlab Produktuen Denda
Semixlab CMP leuntzeko urratzaileen tailerrak
